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高性能X射線熒光分析儀采用良好的硅SIPIN探測器（分辨率為150ev），實(shí)現(xiàn)了無液態(tài)氮檢出器下高靈敏度的檢測功能。配備自動切換的濾光片及透射式X射線球管，大程度地縮小了X射線源與被測物體的間距，從而在較低的電壓下達(dá)到同樣的激發(fā)效率，同時減少了漫射光的干擾，大大地提高了靈敏度和讀數(shù)的性，重復(fù)性。高性能X射線熒光分析儀主要有以下幾個特點(diǎn)：1、在測定微量成分時，由于X射線管的連續(xù)X射線所產(chǎn)生的散射線會產(chǎn)生較大的背景，致使目標(biāo)峰的觀測比較困難。為了降低或消除背景和特征譜線等的散射X...

手持式合金分析儀在金屬制造行業(yè)中，材料、半成品、成品的質(zhì)量與質(zhì)量控制（QA/QC）是*的，混料或使用不合格材料必給企業(yè)帶來損失。手持式合金分析儀被廣泛用于從小型金屬材料加工廠到大型的飛機(jī)的各種制造業(yè)。已成為質(zhì)量體系中材料確認(rèn)、半成品檢驗(yàn)、成品復(fù)檢的儀器。手持式合金分析儀的是一種XRF光譜分析技術(shù)，可用于確認(rèn)物質(zhì)里的特定元素，同時將其量化。它可以根據(jù)X射線的發(fā)射波長(λ)及能量(E)確定具體元素，而通過測量相應(yīng)射線的密度來確定此元素的量。如此一來，XRF度普術(shù)就能測定物質(zhì)的元素...

光學(xué)薄膜厚度測量儀是一種非接觸式測量儀器，一般會運(yùn)用在生產(chǎn)廠商生產(chǎn)產(chǎn)品的過程，由于誤差經(jīng)常會導(dǎo)致產(chǎn)品全部報(bào)廢，這時候就需要運(yùn)用光學(xué)薄膜厚度測量儀來介入到生產(chǎn)環(huán)境，避免這種情況的發(fā)生。由于是光學(xué)測量，在測量時候無須擔(dān)心破壞樣品，讓用戶簡單快速地測量薄膜的厚度和光學(xué)常數(shù)，通過對待測膜層的上下界面間反射光譜的分析，幾秒鐘內(nèi)就可測量結(jié)果。光學(xué)薄膜厚度測量儀的優(yōu)點(diǎn)：1.非接觸式測量光學(xué)薄膜厚度測量儀采用的原理是通過光的反射原理對膜層厚度進(jìn)行測量，屬于非接觸式測量方法，不會對樣品造成任何...

薄膜厚度測量儀的測試方法主要有：磁性測厚法，放射測厚法，電解測厚法，渦流測厚法，超聲波測厚法。在做測厚的時候要注意以下八點(diǎn)：1、在進(jìn)行測試的時候要注意標(biāo)準(zhǔn)片集體的金屬磁性和表面粗糙度應(yīng)當(dāng)與試件相似。2、在測量的時候要注意，側(cè)頭與試樣表面保持垂直。3、在進(jìn)行測試的時候要注意基體金屬的臨界厚度，如果大于這個厚度測量就不受基體金屬厚度的影響。4、在測量的時候要注意試件的曲率對測量的影響。因此在彎曲的試件表面上測量時不可靠的。5、測量前要注意周圍其他的電器設(shè)備會不會產(chǎn)生磁場，如果會將...

X射線熒光分析是確定物質(zhì)中微量元素的種類和含量的一種方法，是利用原級X射線光子或其它微觀粒子激發(fā)待測物質(zhì)中的原子，使之產(chǎn)生次級的特征X射線(X光熒光)而進(jìn)行物質(zhì)成分分析和化學(xué)態(tài)研究。高性能X射線熒光分析儀基本原理：當(dāng)能量高于原子內(nèi)層電子結(jié)合能的高能X射線與原子發(fā)生碰撞時，驅(qū)逐一個內(nèi)層電子而出現(xiàn)一個空穴，使整個原子體系處于不穩(wěn)定的激發(fā)態(tài)，激發(fā)態(tài)原子壽命約為10-12-10-14s，然后自發(fā)地由能量高的狀態(tài)躍遷到能量低的狀態(tài)。這個過程稱為馳豫過程。馳豫過程既可以是非輻射躍遷，也可...

現(xiàn)今的高性能電子束儀器對變化的環(huán)境磁場非常敏感。當(dāng)周遭的磁場改變時會使電子顯微鏡的電子束產(chǎn)生偏折并造成影像解析度或測量精度下降。主動消磁系統(tǒng)系統(tǒng)可降低環(huán)境交流磁場并恢復(fù)分辨率和精度。主動消磁系統(tǒng)主要是由磁場控制器、一或兩個感測探頭及三軸向多芯的線圈組成，并安裝在電鏡房間內(nèi)以產(chǎn)生反向磁場并改善外部磁場問題。系統(tǒng)針對外部磁場變化為自動響應(yīng)，響應(yīng)時間小于100微秒。AC線路場（50/60Hz）減少50x。主動消磁系統(tǒng)無法消除電梯、火車和交通等直流電場變化干擾源。若需要同時消除交流磁...